Diseñador y fabricante de Equipos de Alto Vacío para la Investigación y Desarrollo de nuevos materiales a nivel mundial. Actualmente cuenta con sistemas de depósito de películas delegadas por PVD o CVD. Equipos muy versátiles y modulares para adaptarse a los requisitos técnicos y presupuestales de los clientes. Líderes en México y América Latina en el diseño, fabricación y distribución de componentes y Sistemas de Alto y Ultra Alto Vacío para la investigación y desarrollo de materiales avanzados en campos como la nanotecnología, semiconductores, MEMS, aeroespacial, astronomía, dispositivos médicos, entre muchos otros.

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sistema H2

Sistema multi-técnicas y multi-geometricas para depositar 4 materiales de manera simultánea o hasta 6 secuencialmente por métodos de sputtering y/o evaporación (resistiva, cañón de electrones o laser pulsado). o CVD sobre sustratos de hasta 100 mm de diámetro o de 100 X 100 mm2.

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Sistema V1

Sistema V1 Sistema de deposito multi-tecnicas por métodos de sputtering o/y evaporación (resistiva, cañón de electrones o laser pulsado) recomendado para depositar 3 materiales de manera simultánea o secuencial (4 posible) sobre sustratos de hasta 75 mm de diámetro o de 100x100 mm2.

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Sistema V3

Sistema de deposito multi-tecnicas por métodos de sputtering o/y evaporación (resistiva, cañón de electrones o laser pulsado) recomendado para depositar 4 materiales de manera simultánea o secuencial (12 posible) sobre sustratos de hasta 125 mm de diámetro o de 100x100 mm2. El Cambio de sustrato se hace por la brida superior de 14” o vía cámara de introducción lateral.